机译:嵌段共聚物特征尺寸对硅反应离子蚀刻图案转移的影响
机译:聚(2-乙烯基萘)-嵌段-聚(丙烯酸)嵌段共聚物:自组装图案形成,排列和通过等离子蚀刻转移到硅中
机译:聚(2-乙烯基萘)-嵌段-聚(丙烯酸)嵌段共聚物:自组装图形的形成,排列和通过等离子蚀刻转移到硅中
机译:使用CF4蚀刻用碳硬掩模(CHM)作为掩模使用CF4蚀刻的23nm-径块共聚物自组装纳米块的图案转移
机译:聚异丁烯/聚苯乙烯基三嵌段和五嵌段共聚物是通过准碳阳离子聚合和原子转移自由基聚合的组合而合成的。
机译:嵌段共聚物胶束膜引导金纳米粒子的表面附着及其在硅刻蚀中的应用
机译:通过原子传递自由基聚合通过单罐或两锅合成的热反应性阴离子三嵌段共聚物的自组装特征的差异