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【2h】

Large-Area Nanopatterning Based on Field Alignment by the Microscale Metal Mask for the Etching Process

机译：基于微观金属面膜进行蚀刻工艺的场对准的大面积纳米仪

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1. Large-Area Nanopatterning Based on Field Alignment by the Microscale Metal Mask for the Etching Process [J] . Lee Jihye, Lee Jun-Young, Yeo Jong-Souk ACS applied materials & interfaces . 2019,第39期

机译：基于微观金属面膜进行蚀刻工艺的场对准的大面积纳米透视图
2. Large-area parallel near-field optical nanopatterning of functional materials using microsphere mask [J] . G.X. Chen, M.H. Hong, Y. Lin Journal of Alloys and Compounds: An Interdisciplinary Journal of Materials Science and Solid-state Chemistry and Physics . 2008,第1a2期

机译：使用微球掩模进行功能材料的大面积平行近场光学纳米图案化
3. Broadband and wide-angle antireflection subwavelength structures of Si by inductively coupled plasma etching using dewetted nanopatterns of Au thin films as masks [J] . J.W. Leem, J.S. Yu Thin Solid Films . 2011,第11期

机译：以金薄膜的去湿纳米图案为掩模，通过电感耦合等离子体刻蚀，形成宽带和宽角度的硅抗反射亚波长结构
4. Nanopattern Transcription by Wet Chemical Etching Utilizing Block Copolymer Thin Films as Etching Masks [C] . Ryoko Watanabe, Kaori Kamata, Tomokazu Iyoda PMSE Symposia . 2006

机译：利用嵌段共聚物薄膜作为蚀刻面罩，通过湿化学蚀刻转录纳米透明图案转录
5. Optimized mask image projection for large-area based additive manufacturing process [D] . Zhou, Chi 2011

机译：针对大面积增材制造工艺优化的掩模图像投影
6. Si nanopatterning by reactive ion etching through an on-chip self-assembled porous anodic alumina mask [O] . Violetta Gianneta, Antonis Olziersky, Androula G Nassiopoulou 2013

机译：通过片上自组装多孔阳极氧化铝掩模通过反应离子刻蚀进行Si纳米图案化
7. Rapid nanopatterning of a Zr-based metallic glass surface utilizing focused ion beam induced selective etching [O] . Kawasegi Noritaka, Morita Noboru, Yamada Shigeru, 2006

机译：基于聚焦离子束诱导的选择性刻蚀对Zr基金属玻璃表面进行快速纳米构图

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