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机译:非均匀应变对铜薄膜室温再结晶的影响
Makoto Wada; Junichi Koike; Kouichi Maruyama;
机译:室温刺激发射和再结晶铯铅溴钙钛矿薄膜的激光
机译:X射线衍射薄膜中的弹性应变张量和不均匀应变
机译:铜薄膜中应力应变异质性的模拟:纹理和基底效应
机译:电镀铜薄膜的室温再结晶:方法和机制
机译:分析微重力对聚乙烯薄膜重结晶的影响。
机译:高整流比大于109的透明CuI / ZnO异质结的碘化铜薄膜的室温畴外延
机译:CdTe / ZnTe薄膜的铜诱导的再结晶和相互扩张
机译:中间层对硅基板上超薄铜,金薄膜划痕附着性能的影响
机译:脉冲应变退火法固相重结晶薄膜的方法
机译:用于生产包含卤化铜(I)或伪铜卤化物(I)的薄膜的前体溶液,用于制备包含卤化铜(I)或伪铜薄膜(I)的薄膜的前体溶液的制备方法,膜沉积方法包含卤化铜(I)或伪卤化铜(I)
机译:具有底涂层剂的铜薄膜基板,具有该基板的铜薄膜的制造方法以及具有导电膜的铜薄膜基板,
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