机译:改性硅石磨料颗粒对硅晶片最终抛光中纳米颗粒沉积的影响
机译:通过具有不同磨料粒径的十字图案抛光垫抛光蓝宝石晶片的磨料去除深度
机译:使用高浓度的臭氧水消除硅片上的有机污染物
机译:在臭氧化二水抛光后擦拭硅后去除有机蜡和颗粒
机译:从晶片表面氧化和去除有机薄膜:臭氧水应用和水循环的基础。
机译:超声化学机械抛光与超声研磨相结合的单晶碳化硅晶片材料去除及表面生成研究
机译:从晶圆表面氧化和去除有机薄膜:臭氧水应用和水循环的基本原理。
机译:sprague-Dawley大鼠臭氧化和臭氧化/氯化腐殖酸的亚慢性毒性研究:饮用水消毒模型系统