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【2h】

A Simple Method for High-Performance, Solution-Processed, Amorphous ZrO2 Gate Insulator TFT with a High Concentration Precursor

机译：具有高浓度前体的高性能，高性能，加工，无定形ZrO2栅极绝缘体TFT的简单方法

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Wei Cai; Zhennan Zhu; Jinglin Wei; Zhiqiang Fang; Honglong Ning; Zeke Zheng; Shangxiong Zhou; Rihui Yao; Junbiao Peng; Xubing Lu;
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年度 2017
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