В данной работе исследован промежуточный слой в структуре барьера Шоттки Al-pCdTe.ud Рентгенофазный анализ и фотоэлектрический метод исследования показали, что промежуточный слой между Al и pCdTe достаточно сложен по составу. В нем имеются все три α-β-γud модификации Al₂O₃ и тонкий слой композитного материала c составом (С60)1-x-(СdTe)x с x ≥ 0.5. Общая толщина промежуточного слоя согласно емкостным и рентгеноструктурнымud измерениям составляет не более ~200 Å. Показано, что в структуре Al-pCdTe базовый материал, в основном, состоит из однородного слоя CdTe кубической модификации.
展开▼
机译：在这项工作中，我们研究了肖特基势垒Al-pCdTe的结构中的中间层。 Ud X射线相分析和光电研究方法表明，Al和pCdTe之间的中间层的成分非常复杂。它包含Al 2 O 3的所有三种α-β-γ ud修饰和一个复合材料薄层，其成分为（С60）1-x-（СdTe）x，且x≥0.5。根据电容和X射线衍射测量，中间层的总厚度不超过〜200。结果表明，在Al-pCdTe结构中，基材主要由立方改性的CdTe均匀层组成。
展开▼
