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【2h】

Formation of Ultrahigh Density Quantum Dots Epitaxially Grown on Si Substrates Using Ultrathin SiO2 Film Technique

机译：超高密度量子点的形成外延在Si基材上使用超薄SiO2薄膜技术

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Yoshiaki Nakamura; Masakazu Ichikaw;
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年度 2012
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