Исследован усовершенствованный вакуумно-дуговой источник эрозионной плазмы с магнитнымud управлением катодным пятном и фокусировкой выходного плазменного потока. Установлена сильнаяud зависимость интенсивности выходного плазменного потока и стабильности горения дуги в источнике отud интенсивности и геометрии распределения магнитных полей в нём, а также от длины катода. Вud оптимальном режиме скорость осаждения титанового покрытия на расстоянии 55 мм от выходного торцаud источника достигает 80 мкм/ч в максимуме её радиального распределения при ширине последнего доud 100 мм (на уровне полувысоты диаграммы распределения). Частота спонтанных погасаний разряда вud оптимальных режимах работы источника не превышает 5 мин⁻¹ud .
展开▼
机译：研究了一种改进的侵蚀性等离子体真空弧源，该磁场具有对阴极斑点的电磁控制和对输出等离子体流的聚焦。建立了对输出等离子体流的强度和源中电弧燃烧的稳定性的强烈依赖性，该依赖性取决于其中的磁场强度，分布的几何形状以及阴极的长度。在ud最佳模式下，距ud源的输出端55毫米处的钛涂层的沉积速率在其径向分布的最大值处达到80μm/ h，后者的宽度最大为ud 100 mm（在分布图的半高处）。在源的最佳操作条件下，放电的自发熄灭频率不超过5 min -1 ud。
展开▼
