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机译:电子发射和缺陷形成在慢速,高度带电离子与金刚石表面的相互作用中
E. Sideras-Haddad; T. Schenkel; D.B. Rebuli; A. Persaud; S. Shrivastava; D.H. Schneider; B. Mwakikunga;
机译:慢速,高电荷离子与金刚石表面相互作用时的电子发射和缺陷形成
机译:HOPG表面上的慢速和中等高度带电离子的电子发射和表面蚀刻
机译:钨表面缓慢带电的慢离子引起的二次电子发射中反冲原子的贡献
机译:具有固体表面的缓慢,高电荷离子相互作用的可见光发射测量中的离子电流强度测量装置
机译:缓慢带电的离子与固体相互作用后的电子发射。
机译:GOLGI膜中B4GALT1 / ST6GAL1异构体的组装涉及通过高带电荷的表面域的横向相互作用
机译:慢速高电荷离子与固体相互作用后的电子发射
机译:多激光确定。半导体表面缺陷浓度-评估发射曲线陡峭部分的积累原子和缓慢下降部分的位错
机译:改进的微波等离子体CVD,例如大表面(例如窗玻璃)上的金刚石层的沉积涉及使用一个或多个单独的电子源通过电子发射来使等离子体稳定
机译:电子成分的表面传导芯片的发射及其制造方式,以及具有相同电子成分发射的电子源,图像形成装置
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