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【2h】

Optimized cleaning method for producing device quality InP(100) surfaces

机译：用于生产设备质量INP（100）表面的优化清洁方法

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作者
Yun Sun; Zhi Liu; Francisco Machuca; Piero Pianetta; William E. Spicer;
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年度 2005
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1. Optimized cleaning method for producing device quality lnP(100) surfaces [J] . Yun Sun, Zhi Liu, Francisco Machuca, Journal of Applied Physics . 2005,第12期

机译：优化的清洁方法以生产设备质量的lnP（100）表面
2. Improvement of the surface quality of semi-insulating InP substrates through a novel etching and cleaning method [J] . Liu Jinming, Zhao Youwen, Dong Zhiyuan, Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films . 2013,第3期

机译：通过一种新颖的蚀刻和清洁方法改善半绝缘InP衬底的表面质量
3. Structural damage produced in InP(100) surfaces by plasma‐employing deposition techniques [J] . Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films . 1985,第3期

机译：等离子沉积技术在InP（100）表面产生的结构损伤
4. Low energy Ar/sup +/ cleaning, damage and sputtering of InP{100} surfaces [C] . Sung, M.M., Lee, . 1997

机译：低能量Ar / sup + / InP {100}表面的清洁，损坏和溅射
5. Customer-driven quality by design through the response surface methodology and non-linear optimization. [D] . Chan, Hsin-Li. 2015

机译：通过响应面方法和非线性优化设计，以客户为导向的质量。
6. Optimized holographic femtosecond laser patterning method towards rapid integration of high-quality functional devices in microchannels [O] . Chenchu Zhang, Yanlei Hu, Wenqiang Du, -1

机译：优化的全息飞秒激光图案化方法可在微通道中快速集成高质量的功能器件
7. Good quality Al/SiNx : H/InP metal-insulator-semiconductor devices obtained with electron cyclotron resonance plasma method [O] . Mártil de la Plaza Ignacio, González Díaz Germán, García S., 1998

机译：优质Al / SiNx：电子回旋共振等离子体法制得的H / InP金属-绝缘体-半导体器件

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