机译:在光波导石英玻璃蚀刻中等离子体诱导的表面损伤的形成
机译:结合反应离子刻蚀和动态化学刻蚀以提高熔融石英光学表面的耐激光损伤性
机译:基于KOH的浅蚀刻,用于曝光地下损伤和熔融二氧化硅光学表面的激光损伤阻力
机译:非挥发性表面化合物层对硼硅酸盐玻璃等离子体蚀刻的影响
机译:通过聚焦离子束诱导的选择性混合和湿法化学蚀刻形成光通道波导:设计,制造和表征。
机译:在−50°C以上的条件下使用微毛细管冷凝对多孔有机硅低k进行无损等离子体刻蚀
机译:一种新的硼硅酸盐冠光学光学玻璃氟基等离子体喷射蚀刻的新型交易型号模型