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【2h】

Dual Beam Approach to Nano-Scale Defect Correction of High-End Photolithographic Masks

机译：双光束方法纳米尺度缺陷校正高端光刻面罩

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作者
J G Marshman; A A Graupera; M A Coy;
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年度 2005
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1. Advanced photolithographic mask repair using electron beams [J] . Ted Liang, Eric Frendberg, Barry Lieberman, Journal of Vacuum Science & Technology. B, Microelectronics and Nanometer Structures . 2005,第6期

机译：使用电子束进行高级光刻掩模修复
2. VIBRATION AND BUCKLING ANALYSIS OF NANO-SCALE BEAMS VIA NONLOCAL ELASTICITY AND TIMOSHENKO BEAM THEORY: A DIFFERENTIAL QUADRATURE APPROACH [J] . T. Murmu, S. C. Pradhan Journal of the Aeronautical Society of India . 2010,第1期

机译：基于非局部弹性和蒂莫申科梁理论的纳米尺度梁的振动和屈曲分析：一种差分正交方法
3. Nano-scale height manipulation in sputter-deposited photolithographic patterns [J] . TANIA DEY Journal of optoelectronics and advanced materials . 2011,第3a4期

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机译：纳米尺度聚焦离子束修复90 nm节点交替孔径相移掩模上的石英缺陷
5. Corrections for beam pattern residuals in backscatter imagery from the Kongsberg-Simrad EM300 multibeam echosounder [D] . Llewellyn, Kristian Charles 2006

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6. Case 6/2019 - Total Atrioventricular Septal Defect 12 Years After Operative Correction No Residual Defects [O] . Edmar Atik, Maria Angélica Binotto, Alessandra Costa Barreto 2019

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