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机译:纳米尺度二维化学气相沉积WS2的摩擦
He Wang; Chung-Che Huang; Tomas Polcar;
机译:化学 - 气相沉积合成二维MOS2和WS2膜的性能研究
机译:通过等离子体增强化学气相沉积法沉积的纳米钛膜的特性,以及通过物理气相沉积法将膜的性能与该膜进行比较
机译:纳米级电化学成像在WS2单/双层上的氢进化反应
机译:等离子辅助化学气相沉积钽氮化硅薄膜用于纳米级器件。
机译:纳米级二维化学气相沉积WS2的摩擦起电
机译:基于化学气相沉积的垂直旋转阀中的带结构旋滤
机译:使用电泳沉积的金刚石粉末涂料作为化学气相沉积金刚石的前体。
机译:用于高密度等离子化学气相沉积(HDP-CVD)介电层的等离子增强化学气相沉积(PECVD)硅氮化物阻挡层
机译:通过等离子体化学气相沉积形成沉积膜的方法和通过等离子体化学气相沉积形成沉积膜的设备
机译:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)氮化硅阻挡层,用于高密度等离子体化学气相沉积(HDP-CVD)介电层
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