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【2h】

High conversion efficiency mass-limited Sn-based laser plasma source for extreme ultraviolet lithography

机译：用于极端紫外线光刻的高转换效率质量限制Sn基激光等离子源

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M. Richardson; C.-S. Koay; K. Takenoshita; C. Keyser; M. Al-Rabban;
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年度 2004
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1. High conversion efficiency mass-limited Sn-based laser plasma source for extreme ultraviolet lithography [J] . M. Richardson, C.-S. Koay, K. Takenoshita, Journal of Vacuum Science & Technology. B, Microelectronics and Nanometer Structures . 2004,第2期

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