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PROPERTIES AND PRACTICAL RESULTS OF TUNGSTEN CARBIDE COATING PRODUCED BY LOW TEMPERATURE CVD PROCESS

机译:低温CVD工艺生产的钨碳化物涂层的性质和实用结果

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摘要

In forming tungsten carbide layer by low temperature and vacuum CVD, uniformity of film thickness, adhesion and gloss achieved when the effective zone of coating set is increased to ∅450 × 1,100 mm is described. Characteristics of tungsten carbide layer are evaluated and compared with other materials. Some practical applications to the mechanical parts of plastic injection molding machines are introduced.
机译:在通过低温和真空CVD形成碳化钨层时,当描述涂布组的有效区域增加到∅450×1,100mm时,达到膜厚度,粘合和光泽均匀性。评价碳化钨层的特性,并与其他材料进行比较。引入了塑料注塑机的机械部件的一些实际应用。

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