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157 nm Pellicles (Thin Films) for Photolithography: Mechanistic Investigation of the VUV and UV-C Photolysis of Fluorocarbons

机译：用于光刻的157 nm颗粒（薄膜）：机械研究Vuv和氟碳的UV-C光解

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1. 157 nm Pellicles(Thin Films)for Photolithography:Mechanistic Investigation of the VUV and UV-C Photolysis of Fluorocarbons [J] . Kwangjoo Lee, Steffen Jockusch, Nicholas J.Turro, Journal of the American Chemical Society . 2005,第23期

机译：用于光刻的157 nm薄膜（薄膜）：碳氟化合物的VUV和UV-C光解的机理研究
2. Novel hydrofluorocarbon polymers for use as pellicles in 157 nm semiconductor photolithography: fundamentals of transparency [J] . Roger H. French, Robert C. Wheland, Weiming Qiu, Journal of Fluorine Chemistry . 2003,第1期

机译：在157 nm半导体光刻中用作防护薄膜的新型氢氟烃聚合物：透明性的基础
3. Intensification of UV-C treatment to remove emerging contaminants by UV-C/H2O2 and UV-C/S2O82-: Susceptibility to photolysis and investigation of acute toxicity [J] . Starling Maria Clara V. M., Souza Patterson P., Le Person Annaig, Chemical engineering journal . 2019,第期

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4. 157 nm Pellicles for Photolithography: Mechanistic Investigation of the Deep UV Photolysis of Fluorocarbons [C] . Kwangjoo Lee, Steffen Jockusch, Nicholas J. Turro, Conference on optical microlithography . 2004

机译：用于光刻法的157 nm颗粒：机械调查氟碳的深紫色光解
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7. 157 nm Pellicles for Photolithography: Mechanistic Investigation of the Deep UV Photolysis of Fluorocarbons. [O] . Kwangjoo Leea, Steffen Jockuscha, Nicholas J. Turro*a, 2015

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8. Methanation Reaction on Ruthenium Thin Films: A Mechanistic Investigation [R] . Slaughter, M. D. 1979

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