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Microplasticity of subsurface layers of diamond-like semiconductors under microindentation

机译:微观压痕下类金刚石半导体表面层的可塑性

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摘要

Experimental confirmations of the influence of the free surface of a chip on processes of plastic deforming under indentation such as a decrease of the effective activation energy of dislocations with reduction of load on the indenter and a considerable decrease of temperature of the beginning of polygonization processes, when annealing microhardness rosettes in the field of small impresses, are obtained. A possibility of dislocation motion by means of creeping at temperatures lower than brittleness threshold temperature was shown on the example of GaAs.
机译:实验证明了芯片的自由表面对压痕下塑性变形过程的影响,例如位错的有效活化能降低,压头载荷降低以及多边形化过程开始时的温度显着降低,当在小烙印领域中退火微硬度花环时,会得到。在GaAs的例子中示出了在低于脆性阈值温度的温度下通过蠕变而发生位错运动的可能性。

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