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【2h】

Ferroelectric HfO 2 thin film testing and whole wafer mapping with non‐contact corona‐Kelvin metrology (Phys. Status Solidi A 7∕2017)

机译：铁电HFO 2薄膜试验和整个晶圆测绘，与非接触式电晕 - kelvin Metrology（Physte Solidi A 7/2017））

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Dmitriy Marinskiy; Patrick Polakowski; Piotr Edelman; Marshall Wilson; Jacek Lagowski; Joachim Metzger; Robert Binder; Johannes Müller;
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年度 2017
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