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A Review: Preparation, Performance, and Applications of Silicon Oxynitride Film

机译:氮氧化硅膜的制备,性能和应用

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摘要

Silicon oxynitride (SiNxOy) is a highly promising functional material for its luminescence performance and tunable refractive index, which has wide applications in optical devices, non-volatile memory, barrier layer, and scratch-resistant coatings. This review presents recent developments, and discusses the preparation methods, performance, and applications of SiNxOy film. In particular, the preparation of SiNxOy film by chemical vapor deposition, physical vapor deposition, and oxynitridation is elaborated in details.
机译:氧氮化硅(SINXOY)是其发光性能和可调谐折射率的高度承诺的功能材料,其在光学装置中具有广泛的应用,非易失性存储器,阻挡层和耐刮擦涂层。该审查提供了最近的发展,并讨论了SINXOY薄膜的制备方法,性能和应用。特别地,详细阐述了通过化学气相沉积,物理气相沉积和氧掺杂的SiNxoy膜的制备。

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