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机译:衍射X射线光学器件的高效电子束光刻曝光策略
V. A. Guzenko; J. Romijn; J. Vila-Comamala; S. Gorelick; C. David; Ian McNulty; Catherine Eyberger; Barry Lai;
机译:通过电子束光刻中的图案辅助邻近效应校正来控制区域形状,以提高X射线光学器件的效率
机译:在PMMA中直接写入高纵横比纳米结构的电子束:用于制造X射线衍射光学器件的工具
机译:混合曝光策略:将电子束直接写入与光学光刻相结合,用于磁记录头
机译:衍射光学和反向吸光度调制光学光刻的优化
机译:通过100 keV电子束光刻和电镀处理的高效率菲涅耳波带片用于硬X射线
机译:编码孔径和其他X射线相衬成像方法的高效快速波光学模拟策略
机译:电子束光刻技术的掩膜及其制作方法,电子束曝光方法
机译:-根据这样的衍射光学元件中的任一个的制备衍射光学元件的方法,具有这种衍射光学元件的照明光学器件,-具有这种透镜系统的微光刻投影曝光设备,用于制造具有该光学系统的微电子部件的方法。使用这种投影曝光设备以及通过该方法生产的这种组件
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