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机译:使用X射线光刻制备高纵横比X射线光栅
Daiji NODA; Hiroshi TSUJII; Kazuma SHIMADA; Wataru YASHIRO; Atsushi MOMOSE; Tadashi HATTORI;
机译:基于X射线光刻和电子束光刻的高长宽比亚波长光栅的制作
机译:用X射线相位对比度成像制造具有X射线光刻的吸收光栅
机译:通过软X射线干涉光刻在各种基板上制备大面积高纵横比周期性纳米结构
机译:使用X射线光刻技术制作X射线光栅
机译:具有高纵横比的硬X射线区板的模拟与制造
机译:基于深X射线光刻技术的高纵横比锥形微柱的制备
机译:基于深X射线光刻的高纵横比制备锥形微纤维条件
机译:用软X射线光刻技术制备高纵横比区域板的研究进展
机译:具有宽高比的光栅,特别是用作通过光刻法生产的CT系统中的X射线光栅
机译:用光刻技术生产的宽高比光栅,特别是在CT系统中用作X射线光学光栅
机译:具有高纵横比的栅格,特别是用作通过光刻法生产的ct系统中的x射线光栅
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