机译:ITO缓冲层对脉冲激光沉积技术制备的ZnO多层薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:结构,光学,非线性光学,电介质特性和LA_(0.01)BA_(0.99)TiO_3,SM_(0.5)SR_(0.5)COO_3和SM_(0.5)SR_(0.01)BA_(0.01)BA_的电子结果 (0.99)使用脉冲激光沉积(PLD)技术在石英基板上生长的TiO_3薄膜
机译:退火对脉冲激光沉积(PLD)制备的生长ZnO薄膜的结构和光学性质的影响
机译:在不同氧气压力下通过脉冲激光沉积制备的未掺杂和掺杂Cu的ZnO薄膜的结构和光学性质
机译:通过脉冲激光沉积开发基于ZnO的薄膜晶体管和掺磷的ZnO和(Zn,Mg)O。
机译:脉冲激光沉积法制备MgAl2O4-(Ni0.5Zn0.5)Fe2O4薄膜的磁性和光学性质
机译:撤回:不同的单晶衬底对脉冲激光沉积(PLD)法制备的Y0.225Sr0.775CoO3薄膜的结构,光学性质和介电结果的影响