机译:用于离子导电器件的具有减小漏电流的介孔结构HfO2 / Al2O3复合薄膜
机译:HfO2薄膜中的应力诱导泄漏电流和陷阱产生
机译:HfO2缓冲层对脉冲激光沉积Ba0.6Sr0.4TiO3薄膜介电性能和漏电流的影响
机译:薄膜金属铁电金属器件的漏电流
机译:硅酸锂/五氧化二钒界面锂离子在薄膜锂离子导电器件中扩散的分子动力学模拟。
机译:介孔结构的HfO2 / Al2O3复合材料离子导电泄漏电流降低的薄膜设备
机译:降低漏电流的BiFeO3薄膜的低温生长和界面表征
机译:用于光学和光电器件应用的介观结构薄膜中的半导体纳米晶体;最终的评论。 2005年3月1日至2006年11月30日