首页> 外文OA文献 >Characterization of SiO2 Films Deposited by VUV-CVD Using Organic Siloxane Gases

【2h】

Characterization of SiO2 Films Deposited by VUV-CVD Using Organic Siloxane Gases

机译：使用有机硅氧烷气体沉积Vuv-CVD沉积的SiO2薄膜的表征

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Junichi Miyano; Atsushi Yokotani; Kou Kurosawa;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2003
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Characterization of Siloxane-poly(methyl methacrylate) Hybrid Films Obtained on a Tinplate Substrate Modified by the Addition of Organic and Inorganic Acids [J] . Célia De Fraga Malfatti, Henrique Ribeiro Piaggio Cardoso, Iduvirges Lourdes Müller, Materials Research . 2015,第1期

机译：在有机和无机酸改性的马口铁基板上获得的硅氧烷-聚（甲基丙烯酸甲酯）杂化膜的表征
2. Preparation and characterization of hydrophobic organic-inorganic composite thin films of PMMA/SiO2/TiO2 with low friction coefficient [J] . Gu GT., Zhang ZJ., Dang HX. Applied Surface Science . 2004,第1a4期

机译：低摩擦系数PMMA / SiO2 / TiO2疏水性有机-无机复合薄膜的制备与表征
3. Characterization of Chemical Vapor Deposited Tetraethyl Orthosilicate based SiO2 Films for Photonic Devices [J] . Jhansirani KOTCHARLAKOTA, Venkata Hari Krishna SRIRAMA, Raghvendra Sarvjeet DUBEY Materials Science . 2016,第1期

机译：用于光子器件的化学气相沉积原硅酸四乙酯的SiO2薄膜的表征
4. Characterization and modification of Fe thin film deposited on SiO2/Si(001) [C] . M. Krupska, S. Sowa, A. Duda, 2016 International Conference on Nanomaterials: Application amp; Properties . 2016

机译：沉积在SiO2 / Si（001）上的Fe薄膜的表征和改性
5. Polycarbonate-silsesquioxane and polycarbonate-siloxane nanocomposites: Synthesis, characterization, and application in the fabrication of porous inorganic films. [D] . Abdallah, Jassem. 2009

机译：聚碳酸酯-倍半硅氧烷和聚碳酸酯-硅氧烷纳米复合材料：合成，表征和在多孔无机薄膜的制造中的应用。
6. Characterization of ultrathin InSb nanocrystals film deposited on SiO2/Si substrate [O] . Dengyue Li, Hongtao Li, Hehui Sun, 2011

机译：SiO2 / Si衬底上沉积的超薄InSb纳米晶薄膜的表征
7. Nondestructive microcharacterization of thin films SiO2, Cr, Si, Si3N4, AlN and SiC deposited on quartz and molybdenum [O] . Beldi I., Hadjoub Z., Metiri W., 2009

机译：沉积在石英和钼上的SiO2，Cr，Si，Si3N4，AlN和SiC薄膜的非破坏性微表征
8. In situ Infrared Reflection Absorption Spectroscopic Characterization of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposited SiO2 Films [R] . Koller, K. B., Schmidt, W. A., Butler, J. E. 1988

机译：等离子体增强化学气相沉积siO2薄膜的原位红外反射吸收光谱表征

Characterization of SiO2 Films Deposited by VUV-CVD Using Organic Siloxane Gases

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅