机译:快速热退火的SINX的电性能:H / SI结构,其特征在于电容 - 电压和表面光电谱
机译:以电容-电压和表面光电压光谱为特征的快速热退火SiN_x:HlSi结构的电性能
机译:快速热退火退火Si衬底上溅射HfO2薄膜的化学结构和电性能
机译:快速热退火工艺对电子回旋共振法沉积SiNx:H薄膜性能的影响
机译:Si / sub 0.887 / Ge / sub 0.113 /和Si / sub 0.8811 / Ge / sub 0.113 / C / sub 0.0059 /合金上的快速热氧化物的电特性通过电容-电压和深能级瞬态光谱技术表征
机译:通过角分辨X射线光电子能谱,零椭偏法和电容电压测量研究氧化物/硅界面的结构和电学性质
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构电学和光学性质的影响
机译:低氮含量等离子体沉积和快速热退火的电气表征Al / Sinx:H / InP金属 - 绝缘体 - 半导体结构