机译:SiC(0001)衬底的逐层氢蚀刻和钝化的原子尺度映射
机译:SiC(0001)上外延石墨烯下方锰原子层的原子尺度形态和电子结构
机译:在Pt催化剂的HF溶液中通过化学化学刻蚀对SiC表面进行原子级平整
机译:使用中性束辅助原子层蚀刻技术对32nm以下的金属栅/高k LSTP CMOSFET进行新颖的无损伤高k去除
机译:1/3 ML锡/锗(111)和1/3 ML铅/锗(111)表面的低温相变的原子尺度结构研究。
机译:通过化学蚀刻和通过原子层沉积(ALD)沉积二氧化钛薄膜在纳米钛表面上形成微结构和纳米结构
机译:高密度氯基等离子体中多晶硅栅刻蚀的原子尺度细胞模型和轮廓模拟:钝化层形成对特征轮廓演变的影响