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【2h】

Layer-by-Layer Thinning of PdSe2 Flakes via Plasma Induced Oxidation and Sublimation

机译：Pdse2薄片通过等离子体诱导氧化和升华层的层逐层细化

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1. Layer-by-Layer Thinning of PdSe2 Flakes via Plasma Induced Oxidation and Sublimation [J] . Hoffman Anna N., Gu Yiyi, Tokash Justin, ACS applied materials & interfaces . 2020,第6期

机译：通过等离子体诱导氧化和升华的PDSe2薄片层逐层细化
2. Mechanisms of graphene fabrication through plasma-induced layer-by-layer thinning [J] . Seah Choon-Ming, Vigolo Brigitte, Chai Siang-Piao, Carbon: An International Journal Sponsored by the American Carbon Society . 2016,第Null期

机译：通过等离子体诱导的逐层减薄制造石墨烯的机理
3. Plasma-assisted deposition of indium tin oxide thin films by sublimation using an anodic vacuum arc discharge [J] . Scheffel Bert, Zywitzki Olaf, Preussner Thomas, Thin Solid Films . 2021,第Auga1期

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4. Evaluation of plasma-induced damages to thin oxides during polysilicon gate etching in gas-puff chlorine plasmas [C] . Shingo Tomohisa, Masakazu Taki, Kenji Shintani Symposium on semiconductors and integrated circuits technology . 1999

机译：气态氯等离子体中多晶硅栅极蚀刻过程中等离子体诱导的薄氧化物损伤的评估
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机译：石墨烯性能的改变：电子诱导的可逆氢化，氧化蚀刻和逐层减薄
6. Controlled Plasma Thinning of Bulk MoS2 Flakes for PhotodetectorFabrication [O] . Foad Ghasemi, Ali Abdollahi, Shams Mohajerzadeh 2019

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7. Plasma-Induced Charging Damage in Ultrathin (3-nm) Gate Oxides [O] . Chi-chun Chen, Horng-chih Lin, Chun-yen Chang, 2016

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