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Study of Interface Phenomena in a Topological-Insulator/Mott-Insulator Heterostructure

机译:拓扑绝缘子/ Mott-Insululator异质结构的界面现象研究

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摘要

We theoretically investigate a two-dimensional heterostructure composed of atopological insulator (TI) and a Mott insulator (MI), and clarify what kind ofelectronic states can be realized at the interface. By using inhomogeneousdynamical mean-field theory, we confirm that the topological edge statepenetrating into the MI region induces a heavy-fermion like mid-gap state. Wefurther elucidate the nature of the spatially-modulated quasi-particle weightof the mid-gap state, and discuss the effects of local correlation in the TIregion. The optical conductivity and the Drude weight are also computed withchanging the electron tunneling near the interface.
机译:我们从理论上研究了由拓扑绝缘体(TI)和莫特绝缘体(MI)组成的二维异质结构,并阐明了在界面处可以实现哪种电子状态。通过使用非均质动力学平均场理论,我们证实了渗透到MI区域的拓扑边缘状态会诱发像重隙一样的重费米子态。我们进一步阐明了中间能隙状态的空间调制准粒子权重的性质,并讨论了TI区域中局部相关性的影响。通过改变界面附近的电子隧穿,还可以计算出光导率和德鲁德权重。

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