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机译:磁控溅射沉积纳米复合材料Mo-Fe-B薄膜的合成与表征
Paulius Malinovskis; Stefan Fritze; Justinas Palisaitis; Erik Lewin; Jörg Patscheider; Per O. Å. Persson; Ulf Jansson;
机译:非反应性DC磁控溅射沉积的Mo-B-C薄膜的合成与表征
机译:直流磁控溅射法表征可加工玻璃,陶瓷和玻璃上沉积的铜薄膜
机译:暴露于生理溶液后射频(RF)磁控管溅射沉积的磷酸钙薄膜的演化特性的表面表征
机译:使用DC和RF磁控溅射沉积ALN薄膜的合成与表征
机译:磁控共溅射沉积组成梯度锶锶镧锰矿薄膜的综合研究。
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:反应性磁控溅射沉积的Ti(C,N)纳米复合薄膜:组成和热稳定性
机译:用于沉积用于涂覆玻璃,塑料膜,金属,电子部件和其他基板的薄层的磁控溅射的方法包括首先用磁场冲击磁控管源和/或部分靶材
机译:磁控溅射装置,用于使用该装置的无机薄膜材料的磁通量配置(平衡型/非平衡型)可切换成膜方法,以及用于非磁性薄膜的双型磁控溅射装置和成膜方法成型B
机译:高速脉冲直接磁控溅射镀膜源沉积低温多晶硅和高功能薄膜的溅射装置
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