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机译:通过偏置溅射法沉积的薄膜I.电化学特性
Y.J. Lee; H.Y. Park; W.I. Cho; B.W. Cho; K.B. Kim;
机译:溅射和电化学方法沉积铂薄膜的物理和电化学研究
机译:添加到氩氮溅射气体中的氢含量和衬底偏置电压的参数空间,以通过不平衡磁控溅射法形成立方氮化硼薄膜
机译:基质偏置电压对r的薄膜电化学腐蚀行为的影响。 F磁控溅射
机译:RF磁控溅射法用基板偏置沉积LiCoO2薄膜的特性
机译:热丝化学气相沉积法在玻璃上沉积的聚四氟乙烯薄膜的摩擦特性。
机译:用于全固态薄膜锂微电池的溅射LiCoO2阴极材料
机译:粉末靶溅射沉积LiCoO2薄膜的研究
机译:LiCoO2 LiCoO2溅射靶的制备方法及其正极和薄膜材料的制作
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