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【2h】

Investigation of native oxide removing from HCPA ALD grown GaN thin films surface utilizing HF solutions

机译：利用HF溶液研究HCPA ALD生长GaN薄膜表面的天然氧化物的研究

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Petro Deminskyi; Ali Haider; Necmi Biyikli; Alexander Ovsianitsky; Alexander Tsymbalenko; Dmitry Kotov; Vladyslav Matkivskyi; Nata Liakhova; Vladimir Osinsky;
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年度 2016
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