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【2h】

Tungsten Allylimido Complexes Cl4(RCN)W(NC3H5) as Single-Source CVD Precursors for WNxCy Thin Films. Correlation of Precursor Fragmentation to Film Properties

机译：钨烯丙基酰亚胺络合物Cl4（RCN）W（NC3H5）作为Wnxcy薄膜的单源CVD前体。前体碎片对膜性质的相关性

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