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Reactive ion beam etching – based finishing of optical aluminium surfaces

机译：基于反应离子束蚀刻的光学铝表面精加工

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Melanie Ulitschka; Jens Bauer; Frank Frost; Thomas Arnold;
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年度 2019
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1. Reactive ion beam etching – based finishing of optical aluminium surfaces [J] . Melanie Ulitschka, Jens Bauer, Frank Frost, EPJ Web of Conferences . 2019,第11期

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2. Figuring of optical aluminium devices by reactive ion beam etching [J] . Jens Bauer, Melanie Ulitschka, Frank Frost, EPJ Web of Conferences . 2019,第2期

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3. Device for the precise shape correction of optical surfaces by ion-beam and reactive plasma etching [J] . Zabrodin I.G., Zakalov B.A., Kaskov I.A., Journal of surface investigation: x-ray, synchrotron and neutron techniques . 2013,第5期

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4. Reactive ion beam etching - based finishing of optical aluminium surfaces [C] . Melanie Ulitschka, Jens Bauer, Frank Frost, EOS optical technologies conference . 2019

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5. Studies of the effects of fluorocarbon deposition and etching on silicon and silicon dioxide etching processes using methyl trifluoride in an inductively coupled plasma reactor, and the development of a reactive ion beam system for the study of plasma-surface interaction mechanisms. [D] . Rueger, Neal R. 1998

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