AI写作工具
文献服务
退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
机译:非均匀薄膜光学表征的近似方法:氮化硅膜的应用
Ivan Ohlídal; Jiří Vohánka; Daniel Franta; Martin Čermák; Jaroslav Ženíšek; Petr Vašina;
机译:用于MEMS的LPCVD多晶硅和氮化硅薄膜的合成与表征
机译:用于光伏应用的无氨非晶氮化硅薄膜的光学和结构性质
机译:用于空间应用的氮化硅薄膜力学性能的表征
机译:氮化硅薄膜的合成,表征及其在光纤上作为防氢渗透的气密涂层的应用
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:通过光热挠度光谱,应用对氢化非晶硅膜的非均匀弱吸收薄膜的表征
机译:利用薄膜的氮化硅的氮化硅薄膜的制造方法和薄膜晶体管的制造方法
机译:氮化硅薄膜的形成方法以及使用该氮化硅薄膜的薄膜晶体管的制造方法
机译:薄膜氮化硅生产工艺和使用薄膜氮化硅的薄膜晶体管生产工艺
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。