机译:SINX与苯甲醛的气相表面官能化将SIO2增加到SINX蚀刻选择性原子层蚀刻
机译:氢在晶体硅表面上造成的缺陷终止,从而改善了催化化学气相沉积SiNx和SiNx / P催化掺杂层的钝化质量
机译:磁控溅射技术沉积的ZrN / SINX,CRN / SINX和ALN / SINX多层膜的结构性能和抗氧化性
机译:补偿P型Czochralski硅晶片表面钝化Sinx / SiO2双层的行为
机译:使用惰性压电喷墨打印头通过SiNx,选择性涂料和种子层分配进行直接蚀刻,用于太阳能电池制造
机译:用于图案转移的高精度等离子刻蚀:基于碳氟化合物的原子层刻蚀
机译:探索原子薄SiNx中间层在超薄碳膜结构中的作用
机译:用碳氢化合物SiO2和Sinx表面的选择性气相官能化