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机译:使用TiO2界面层在金属/ MOS2触点(PHY)的稳定MOS2场效应晶体管
Woojin Park; Jung-Wook Min; Sohail Faizan Shaikh; Muhammad Mustafa Hussain;
机译:单层MOS2场效应晶体管中金属触点的电子照射
机译:单层和双层MOS2与金属触点的界面性质:超出能量带计算
机译:与分层CRPS4接触的MOS2场效应晶体管的电气性能
机译:具有金属触点的单层MoS2双栅晶体管的性能评估和优化
机译:使用2D半导体层间改进MOS2晶体管中的触点和装置性能
机译:MoS2单层和双层金属接触的界面性质:超出能带计算
机译:在金属/ MOS2接触时使用TiO2界面层的稳定MOS2场效应晶体管
机译:电镀法合成自控MOS2单层的方法及其自耦MOS2的晶体管的合成
机译:电镀法合成自控MoS2单层的方法和使用自控MoS2单层的晶体管
机译:基于单层和多层MOS2场效应晶体管的自组装制造方法
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