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【2h】

Surface plasmon illumination scheme for contact lithography beyond the diffraction limit

机译：用于联系光刻的表面等离子体照明方案超出衍射极限

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Olivier J.F. Martin;
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年度 2003
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1. Surface plasmon illumination scheme for contact lithography beyond the diffraction limit [J] . Olivier J.F. Martin Microelectronic Engineering . 2003,第Jun期

机译：接触光刻的表面等离子体激元照射方案超出衍射极限
2. Resonant Scheme for Interferometric Lithography Improves Spatial Resolution Beyond Diffraction Limit [J] . Joan J. Carvajal MRS bulletin . 2008,第5期

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3. Surface plasmon-assisted nano-lithography with a perfect contact aluminum mask of a hexagonal dot array [J] . Kim Eun Sung, Kim Yong Min, Choi Kyung Cheol Plasmonics . 2016,第5期

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4. Numerical Prediction of Minimum Sub-Diffraction-Limit Image Resolved by Silver Surface Plasmon Lenses [C] . Masafumi Fujii Conference on Lasers and Electro-Optics Quantum Electronics and Laser Science Conference . 2009

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