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机译:高旋纺锰薄膜界面磁化的取向和厚度依赖性
Rajesh V. Chopdekar; Elke Arenholz; Y. Suzuki;
机译:高自旋极化锰矿薄膜界面处磁化的方向和厚度依赖性
机译:取向和层厚度取决于溅射多层Fe / Si和Fe / Ge薄膜的纵向磁化和横向磁化磁滞回线
机译:自旋极化电流驱动的薄膜中磁化动力学对各向异性的影响
机译:钙钛矿锰矿薄膜中磁和磁输运性质的厚度依赖性
机译:过渡金属和半金属二氧化铬薄膜和多层膜的自旋极化输运和磁化反转行为。
机译:电阻开关器件中金属氧化物的薄膜沉积:锰矿薄膜中电阻开关的电极材料依赖性
机译:超导薄膜中的涡流方向:自旋极化中子反射率和磁化强度的定量比较
机译:通过形成方向控制层和膜厚控制层之间的界面,提高了使用寿命可靠性的铁电PZT薄膜及其制造方法
机译:使用氯化铬前体通过CVD制备的高度自旋极化的二氧化铬薄膜
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