机译:等离子体压缩化学气相沉积制备立方晶氮化硼薄膜中残余压缩应力引起的六方氮化硼红外吸收频移
机译:等离子体压缩化学气相沉积制备立方晶氮化硼薄膜中残余压缩应力引起的六方氮化硼红外吸收频移
机译:通过磁增强感应耦合射频等离子体化学气相沉积减少立方氮化硼薄膜的偏置合成
机译:等离子体增强化学气相沉积法原位S掺杂立方氮化硼薄膜
机译:具有衬底偏置的超声等离子体喷射化学气相沉积系统中的立方氮化硼膜沉积和过程诊断。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:从B2H6-H2-NH3和B2H6-N2混合气体中等离子体增强化学气相沉积氮化硼薄膜