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New Method for Determination of Drain Saturation Voltage in Short Channel MOS Devices Between Liquid Helium to Room Temperature

机译:液氦短沟道MOS装置中的漏极饱和电压的新方法,进入室温

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摘要

A new method for drain saturation voltage extraction in submicron MOSFETs ispresented. It is based on measurements of the partial derivative of the impact ionizationrate. The method has been tested using main of channel length MOSFET devices andcompared with others methods.
机译:亚微米MOSFET中漏饱和电压提取的一种新方法。它基于碰撞离子化的部分衍生物的测量。该方法已经使用主信道长MOSFET设备进行了测试,并与其他方法进行了分组。

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