AI写作工具
文献服务
退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
机译:污渍蚀刻法制备粉末多孔硅
Toshihiro Nakamura;
机译:一种新的多步污点刻蚀方法制作的均质发光污点刻蚀多孔硅
机译:污点刻蚀制备共钝化多孔硅
机译:电化学刻蚀法制备多孔硅及其形态和光学性质
机译:用铁离子染色以生产厚多孔硅膜
机译:多孔硅的电化学制备和物理化学表征以及多孔二氧化硅的阳极膜。
机译:从硅工程到多孔硅和硅金属辅助化学刻蚀的纳米线:Ag的大小和作用电子清除率对形貌控制及机理的影响
机译:金属辅助化学刻蚀制备三维多孔硅
机译:可见光致发光多孔siGe的染色蚀刻
机译:通过污点蚀刻生产多孔硅颗粒的方法以及由污点蚀刻硅粉制成的硅纳米颗粒
机译:用于使用该蚀刻溶液蚀刻多孔硅蚀刻方法的蚀刻溶液以及使用该蚀刻溶液制备半导体器件的方法
机译:用于蚀刻多孔硅的蚀刻溶液,使用该蚀刻溶液的蚀刻方法以及使用该蚀刻溶液的半导体方法的制备方法
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。