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【2h】

Feasibility of Plasma Nitriding for Effective Surface Treatment of Pure Aluminum

机译：纯铝有效表面处理等离子体氮化的可行性

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Patama Visuttipitukul; Tatsuhiko Aizawa; Hideyuki Kuwahara;
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年度 2003
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1. Feasibility of Plasma Nitriding for Effective Surface Treatment of Pure Aluminum [J] . Patama Visuttipitukul, Tatsuhiko Aizawa, Hideyuki Kuwahara Materials transactions . 2003,第7期

机译：等离子渗氮对纯铝进行有效表面处理的可行性
2. Simultaneously improving surface mechanical properties and in vitro biocompatibility of pure titanium via surface mechanical attrition treatment combined with low-temperature plasma nitriding [J] . Sun J., Yao Q. T., Zhang Y. H., Surface & Coatings Technology . 2017,第期

机译：通过表面机械磨损处理改善纯钛的表面力学性能和体外生物相容性，结合低温等离子体氮化
3. Cost- and resource effective surface layer heat treatment in gear and tool industry by pulsPlasma~R-Nitriding [J] . Reinar GRUN, Dietmar VOIGTLANDER Tratamente Termice si Ingineria Suprafetelor . 2009,第2期

机译：通过pulsPlasma〜R-Nitriding在齿轮和工具行业中具有成本和资源效益的表面层热处理
4. Surface Modification of Cold Compacted and Forged Pure Aluminum by Plasma Nitriding [C] . O Patama Visuttipitukul 粉体粉末冶金協会大会 . 2002

机译：等离子氮化冷压实和锻造纯铝的表面改性
5. Characterization of the growth of aluminum nitride and gallium nitride thin films on hydrogen etched and/or cleaned hydrogen-6-silicon carbide(0001) surfaces. [D] . Hartman, Jeffrey David. 2000

机译：表征氢蚀刻和/或清洁的氢-6-碳化硅（0001）表面上氮化铝和氮化镓薄膜的生长。
6. Abrasive Wear Resistance of Plasma-Nitrided Ti Enhanced by Ultrasonic Surface Rolling Processing Pre-Treatment [O] . Dingshun She, Shihao Liu, Jiajie Kang, 2019

机译：超声表面滚轧处理前处理增强了等离子氮化钛的耐磨性
7. Corrosion Behavior of Tentative Nickel Binary and Ternary Alloys after Plasma Ion Nitriding Treatment : Studies on Surface Modification of Non Ferrous Metals by means of Plasma Ion Nitriding (PIN) Process (Report 3)(Materials, Metallurgy Weldability) [O] . MATSUDA Fukuhisa, NAKATA Kazuhiro, MAKISHI Takashi, 2013

机译：暂定镍二元和三元合金的等离子渗氮处理后的腐蚀行为：通过等离子渗氮（PIN）工艺对有色金属表面改性的研究（报告3）（材料，冶金和焊接性）
8. Etching Characteristics and Surface Analysis of Molecular Bean Epitaxy Grown P-Type Aluminum Gallium Nitride With Boron Trichloride/Chlorine Gases in Inductively Coupled Plasma (ICP) Dry Etching [R] . Semendy, F. , Boyd, P. , Lee, U. 2004

机译：电感耦合等离子体（ICp）干蚀刻中三氯化硼/氯气体分子外延生长p型氮化铝镓的刻蚀特性及表面分析

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