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【2h】

Self-aligned offset gate poly-Si TFTs using photoresist trimming technology

机译：使用光致抗蚀剂修剪技术自对准偏移栅极多SITTS

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作者
LongYan Wang; Lei Sun; DeDong Han; Yi Wang; ManSun Chan; ShengDong Zhang;
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作者单位

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年度 2014
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