首页> 外文OA文献 >Analytical Chemistry represented by 'super' and 'ultra'. Determination of the ultratrace metallic impurities distribution in silicon wafers by sub-area chemical etching/microflow neblizer-ICP-MS.

【2h】

Analytical Chemistry represented by 'super' and 'ultra'. Determination of the ultratrace metallic impurities distribution in silicon wafers by sub-area chemical etching/microflow neblizer-ICP-MS.

机译：分析化学“超级”和“超”代表。亚区化学蚀刻/微射线NEBLIELER-ICP-MS测定硅晶片中硅晶片超速金属杂质分布。

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Miyuki TAKENAKA; Yuji YAMADA; Motonaka YABUKI; Shinichi NAKAMURA; Shoji KOZUKA;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2001
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
专利

1. Improvement in Linearity of Calibration Curves Using of Palladium Modifier in Electrothermal Vaporization/ICP-MS and Determination of Ultratrace Metallic Impurities on Silicon Wafers [J] . Hiroshi MITSUMATA, Toshio MORI 日本セラミックス協会学術論文誌 . 2006,第1326期

机译：在电热蒸发/ ICP-MS中使用钯改性剂改善校准曲线的线性度并确定硅晶片上的超痕量金属杂质
2. Determination of ultratrace metallic impurities in silicon wafers by acid vapor decomposition/electrothermal vapolization ICP-MS [J] . Miyuki Takenaka, Yuji Yamada, Masaru Hayashi 分析化学 . 1997,第9期

机译：酸蒸气分解/电热蒸发ICP-MS法测定硅片中超痕量金属杂质
3. Determination of Metallic Impurities in a Silicon Wafer by Local Etching and Electrothermal Atomic Absorption Spectrometry [J] . Hye-Young CHUNG, Sang-Hak LEE, Young-Hun KIM, Analytical Sciences . 2003,第7期

机译：局部蚀刻和电热原子吸收光谱法测定硅晶片中的金属杂质
4. WSPS: WAFER SURFACE PREPARATION SYSTEM. A NOVEL MODULAR AUTOMATED METHOD CAPABLE OF THE ULTRATRACE ANALYTICAL INSPECTION OF 300 MM SILICON WAFER SURFACES [C] . Siegfried Pahlke, Ludwig Kotz, Thomas Ehmann, Silicon materials science and technology . 1998

机译：WSPS：晶圆表面制备系统。适用于300毫米硅晶片表面的超痕量分析检测的新型模块化自动方法
5. Determination of the metallic-impurity distribution on a silicon wafer by the multiple indicator-rod method for liquid-phase dissolution and graphite-furnace AAS. [O] . Hiroyuki NAGASAWA, Masahisa ENOMOTO 1997

机译：液相溶解和石墨炉AAS的多指示棒法测定硅晶片上的金属 - 杂质分布。

Analytical Chemistry represented by 'super' and 'ultra'. Determination of the ultratrace metallic impurities distribution in silicon wafers by sub-area chemical etching/microflow neblizer-ICP-MS.

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅