机译:软X射线各种线间距光栅使用电子束光刻写入相位掩模制造禁区全能
机译:基于机器学习的快速极端紫外线光刻屏蔽近场计算方法
机译:相移掩膜创新工艺技术在近场相移光刻中的应用
机译:用于近场光刻的相位掩模的波长为441.6nm的抗反射子波长结构
机译:平面近场声全息术和小提琴表面成像。
机译:使用电子束光刻写入的相位掩模通过近场全息术制造的软X射线变化线间隔光栅
机译:使用电子束光刻写入相掩模,由近场全息术制造的软X射线变化线间隙
机译:具有Chirp调制二进制相位编码参考光束掩模的多路全息术。