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机译:通过阴极电弧蒸发沉积FECR,CRAL和FECRAL涂层的结构和性质
R.L. Vasilenko; V.N. Voyevodin; V.А. Belous; М.A. Bortnitskaya; І.V. Kolodiy; І.О. Klimenko; V.D. Ovcharenko; V.І. Kovalenko; V.G. Marinin; A.V. Ilchenko; М.А. Tikhonovsky; A.S. Kuprin;
机译:使用阴极弧蒸发沉积的Alcrn涂层的结构和性质
机译:通过阴极弧蒸发沉积的Alcrn涂层的结构,形态和力学性能
机译:偏压对阴极电弧蒸发沉积Al-Si-N涂层微观结构,力学性能和磨损性能的影响
机译:通过阴极弧蒸发沉积锡涂层力学性能的硼离子植入的影响
机译:基于氮化物的氮化物纳米结构涂层的蠕变和抗蚀性
机译:硅浓度对使用阴极弧蒸发沉积的Al-Cr-Si-N涂层性能的影响
机译:连续熔化和蒸发固体材料的系统和方法,气相沉积涂层系统,连续送入电极,电弧放电设备。通过气相沉积涂层产生电弧放电以电离气相涂层的方法。通过汽相沉积测量涂层系统中蒸发器的电离度和蒸发速率,并去除附着在真空镀膜上的真空室中沉积的材料。
机译:用于阴极电弧蒸发或蒸发的阴极以及用于涂覆或注入基底的装置。
机译:用于造成由离子或电弧诱发的阴极构成的离子或电弧诱发的蒸发的系统的离子涂覆或注入的装置
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