机译:气体介导的电子束诱导刻蚀及相关材料加工技术的进展
机译:20 nm电子束光刻和反应离子刻蚀,用于制造双栅极FinFET器件
机译:可控聚焦电子束诱导刻蚀,用于制造亚束大小的纳米孔
机译:聚焦电子束诱导蚀刻和原位监测:亚梁尺寸纳米孔的制造
机译:通过聚焦离子束诱导的选择性混合和湿法化学蚀刻形成光通道波导:设计,制造和表征。
机译:电子与杂核羰基前体H2FeRu3(CO)13的相互作用以及与HFeCo3(CO)12的比较:从基础气相和表面科学研究到聚焦电子束诱导沉积
机译:控制聚焦电子束诱导的蚀刻用于制造子梁尺寸纳米孔
机译:未来军用IC器件制造中电子束光刻的基本限制