An Elementary Model for Control of a Semiconductor Etching Process

机译：一种用于控制半导体蚀刻工艺的基本模型

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A. Madhukar; T. Parent; I. G. Rosen; C. Wang;
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年度 2002
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1. An elementary model for control of a semiconductor etching process [J] . Madhukar A., Parent T., Rosen IG., SIAM Review . 2002,第4期

机译：用于控制半导体蚀刻工艺的基本模型
2. MODELLING AND DECISION SUPPORT SYSTEM FOR INTELLIGENTMANUFACTURING: AN EMPIRICAL STUDY FOR FEEDFORWARD-FEEDBACK LEARNING-BASED RUN-TO-RUN CONTROLLER FORSEMICONDUCTOR DRY-ETCHING PROCESS [J] . Marzieh Khakifirooz, Mahdi Fathi, Chen-Fu Chien International Journal of Industrial Engineering . 2018,第6期

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