机译:在每个氢原子中〜9Be,〜11B,〜12C,〜14N,〜15N,〜16O,〜20Ne,〜22Ne,〜56Fe和〜58Ni原子核中400-650 MeV的光束的片段的生产截面目标。 I.装药量变化和总横截面
机译:在液态氢靶中相互作用的400-650 MeV PER核素〜9Be,〜11B,〜12C,〜14N,〜16O,〜20Ne,〜56Fe和〜58Ni核束的片段的生产截面。二。碎片的同位素截面
机译:类似于组织的介质中的中子生产以及高能离子束辐照的屏蔽材料
机译:使用MeV离子束模拟JANNUS Saclay对先进材料的辐照效果
机译:用4.5 MeV质子束照射的石英观测器的辐射剂量。
机译:使用无壁组织当量比例计数器的290-MeV / u碳和500-MeV / u铁离子束的线能量分布的径向依赖性
机译:用300°照射的56Fe靶中核素产生的截面, 与氢气数据相比,500,750,1000,1500和2600 meV质子 目标照射300,500,750,1000和1500 meV /核子56Fe离子
机译:具有1至60 meV能量的点 - 单向电子束辐照的水体模中能量沉积分布表,以及对宽光束的应用