机译:划伤熔融二氧化硅表面对UV激光诱导损伤的抗性
机译:抛光引起的表面杂质缺陷对熔融石英光学元件抗激光损伤的影响以及用HF酸腐蚀去除
机译:抛光诱导的地下杂质缺陷对熔融二氧化硅光学激光损伤性的影响及其用HF酸蚀刻去除
机译:使用紫外线激光调节和CO_2激光处理增强了熔融石英表面的抗光学损伤性
机译:紫外激光诱导的熔融石英致密化:分子动力学研究。
机译:划痕的熔融石英表面对紫外线激光引起的损坏的抵抗力
机译:抛光诱导的地下杂质缺陷对熔融二氧化硅光学激光损伤性的影响及其用HF酸蚀刻去除